Laser Interference Microscope MFS150
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It is suitable for CMP chemical mechanical polishing heads，wafer lapping discs， optical mold substrates， precision bearing end faces and semiconductor vacuum adsorption platforms
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采用光学干涉技术，实现材料平面度测量
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支持快速无损检测
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快速、简单、精确、可重复性高
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干涉条纹图像定性分析、实时干涉条纹影像
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掠入射干涉技术达到纵向分辨率10nm，动态测量范围100μm
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大视场一次性干涉成像：150mm全口径测量仅需数秒
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